Nel laboratorio di deposizione film sottili sono presenti differenti apparecchiature tipo PVD (Physical Vapor Deposition):
PVD KENOSISTEC K75 composto da tre sistemi indipendenti: Dual magnetron sputtering, HiPIMS - High Power Impulse Magnetron Sputtering ed un Cathodic ARC Equipment
KS800 CLUSTER attrezzato con una camera confocale per esperimenti di co-sputtering, evaporazione termica, evaporazione a fascio elettronico e ALD Plasma/thermal Atomic Layer Deposition
